产品规格Product Specifications
■ 研磨晶圆尺寸:12 吋
应用范围Scope of Application
■ 本设备主要用来做晶圆研磨及表面平整度抛光之用途
主机说明Mechanism and Details
■ 上研磨盘:上下移动控制研磨厚度,可调整及控制正反转速(1~2500 rpm),采用感应伺服马达
■ 下载盘:可调整及控制正反转速(1~60 rpm),采用感应伺服马达,可准确定位
■ PLC自动控制:可直接在人机接口上控制动作及制程
■ 研磨晶圆尺寸:12 吋
应用范围Scope of Application
■ 本设备主要用来做晶圆研磨及表面平整度抛光之用途
主机说明Mechanism and Details
■ 上研磨盘:上下移动控制研磨厚度,可调整及控制正反转速(1~2500 rpm),采用感应伺服马达
■ 下载盘:可调整及控制正反转速(1~60 rpm),采用感应伺服马达,可准确定位
■ PLC自动控制:可直接在人机接口上控制动作及制程